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氮化硅干法刻蝕工藝設備模型的試驗與測量--《微電子學》年期摘要:通過對氮化硅薄膜干法刻蝕工藝實驗結果的測量,得到硅片表面非均勻性分布的具體測量數(shù)據(jù),并對這種現(xiàn)象的成因進行了定性的理論分析,為下一步建立刻蝕工藝設備模。

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低壓燃燒合成氮化硅或氮化硅鐵的方法及設備_查詢_下載_。控制氮氣壓力為.~Mpa,并在℃~℃之間進行連續(xù)或間斷燃燒合成;d)將燃燒合成后的氮化硅或氮化硅鐵自然冷卻或強制冷卻,再經球磨機、振動磨機或其它磨碎設備制。

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氮化硅生產設備先進,工藝合理淄博天海氮化硅研發(fā)生產的氮化硅結合碳化硅產品用于鋁液、銅液、鋅液、玻璃液和有腐蝕氣氛中使用。主要產品:氮化硅結合碳化硅熱電偶保護管、電加熱氮化硅輻射管、氮化。

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PECVD氮化硅設備考慮和應用--《微電子學與計算機》年期細線條發(fā)展過程氮化硅鈍化氮化硅膜鈍化膜均勻度膜試驗生產量溫度射頻頻率。氮化硅膜射頻頻率及硅烷的試驗過程。確定了適合于大面積電路鈍化膜的設備條件.。

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氮化硅的生產設備-粉碎磨粉價格詳細描述氮化硅鐵生產線技改項目可行性研究主要是通過對環(huán)保設備項目的技術改造主要內容和配套條件,如市場需求資源供應建設規(guī)模技改后的工藝路線技改后的設備選型技改。

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PECVD氮化硅薄膜的性能對太陽能電池的影響分析-豆丁網(wǎng)閱讀文檔頁-上傳時間:年月日積分反射儀測試反射率以及利用HF腐蝕來檢驗薄膜致密性等手段對薄膜性能進行了分析和比較。又對板式PECVD制備薄膜條件進行了優(yōu)化。研究發(fā)現(xiàn),氮化硅的沉積條件。

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一種制造高純度超細氮化硅的方法及設備~.mm的硅晶體,床層外部設有主加熱器,反應器的上部空間為反應區(qū),反應區(qū)外部設有副加熱器。同現(xiàn)有技術比較,本發(fā)明的優(yōu)點是設備投資少,能耗低,收率高,氮化硅顆粒。

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蝕刻氮化硅薄膜的設備及方法且該磷酸槽盛裝有磷酸液;接著控制注入磷酸液中的水的水溫;將一表面已形成有一氮化硅薄膜的晶圓浸入上述設備的磷酸槽中,以進行氮化硅薄膜的蝕刻,以解決晶圓上發(fā)現(xiàn)凹陷。

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、一種制造高純度超細氮化硅的方法及設備?_簡介_作者:科研工作。設備?分享到:作者:科研工作者匯編出版社:化學工業(yè)出版社出版時間:印刷時間:印數(shù):裝訂:其它版次:開本:頁數(shù):字數(shù):ISBN:舉報售價:.元品相:十品運。

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氮化硅粉體、氮化硅陶瓷材料的燒結設備選型年月日-前言:氮化硅、氮化物陶瓷等工業(yè)陶瓷的燒結,一般不外乎是傳統(tǒng)的箱式氣氛爐,筆者關于燒結特種陶瓷的窯爐設備做以下詳細介紹。前言:近。

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高純氮化硅陶瓷研磨球規(guī)格:高純氮化硅陶瓷研磨球-蓋德化工網(wǎng)長沙華晟科貿發(fā)展有限公司華晟擁有專業(yè)的科研人員與生產技術人員,經過多年的研制、創(chuàng)新,研發(fā)出全新的陶瓷配方以及一體化高純氮化硅陶瓷生產工藝。主要產品有:高純氮化。

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