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晶片使用作為拋光液作為催化劑材料去除率約為加工后表面粗糙年月日電化學(xué)拋光電化學(xué)拋光是電化學(xué)氧化和氧化層去除相結(jié)合的加工過(guò)程。通過(guò)控制拋光時(shí)的電流密度實(shí)現(xiàn)對(duì)晶片表面的氧化速率進(jìn)行控制進(jìn)而提高拋光速率。

木材密度對(duì)聲振動(dòng)特性參數(shù)的影響學(xué)問(wèn)木材的各項(xiàng)物理力學(xué)指標(biāo),包含動(dòng)彈性模量在內(nèi)一般均隨著木材密度的增大而增大在硅片拋光方面,超聲振動(dòng)的引入包括超聲霧化施液兆赫級(jí)振動(dòng)輔助拋光

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金屬表面電解質(zhì)等離子拋光及其工藝的分析年月日一種方法是利用硫酸銨拋光液的濃度低于以后拋光的電流密度會(huì)明顯下降的滾筒震動(dòng)拋光是將磨料增光劑等按一定比例與被拋光工件一起放入按

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∕碳化硅單晶拋光片微管密度無(wú)損檢測(cè)方道客巴巴年月日碳化硅單晶拋光片微管密度無(wú)損檢測(cè)方法范圍本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了則經(jīng)過(guò)樣品的光線(xiàn)在微管附近振動(dòng)方向與整體不再平行,結(jié)果探測(cè)器得到

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